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國產納米級白光干涉測厚儀

產品簡介

LTS系列白光干涉測厚儀基于白光干涉原理,專為薄膜、涂層厚度測量設計,具備納米級精度、超快采樣速度及寬范圍適應性,適用于半導體、新能源、光學薄膜等高duan制造領域。國產納米級白光干涉測厚儀

產品型號:LTS系列
更新時間:2025-05-27
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LTS系列干涉測厚傳感器全面產品介紹

國產納米級白光干涉測厚儀

一、產品概述

  LTS系列白光干涉測厚儀基于白光干涉原理,專為薄膜、涂層厚度測量設計,具備納米級精度、超快采樣速度及寬范圍適應性,適用于半導體、新能源、光學薄膜等高duan制造領域。

  

二、白光干涉測厚儀的核心優勢(產品亮點)

  超高精度
  重復精度達 1nm,線性誤差 ±20nm,實現納米級厚度測量。
  非接觸式測量,避免接觸損傷樣品表面。
  超快速度與寬范圍
  最高 10kHz 采樣頻率,滿足高速動態測量需求。
  超大測厚范圍:常規型號厚度測量范圍 1μm~2500μm(折射率 1.5 時),適配不同薄膜厚度場景。
  環境適應性強
  抗干擾能力強,不受電磁干擾影響。
  寬范圍工作距離,部分型號建議安裝距離 5-10mm,兼容復雜工況。
  零發熱探頭設計:探頭內部無電子元件,避免發熱導致的夾具變形和光軸偏移,確保長期穩定測量。
  光源技術升級
  超高亮度彩色激光光源:通過藍光激發熒光體生成多色光,較傳統白色 LED 光源,發光波段更廣、亮度更穩定,提升干涉信號解析精度。國產納米級白光干涉測厚儀

  

三、測量原理

  利用白光干涉現象:
  光源發射:白色點光譜經干涉探頭照射到樣品表面,薄膜上下表面反射光(反射光 1、反射光 2)產生相位差,形成彩色干涉條紋。
  信號解析:通過解析干涉條紋的相位差與光程差關系,計算薄膜厚度(厚度與相位差直接相關)。
  非接觸測量:無需接觸樣品,通過光譜信號處理實時獲取厚度值。

  

四、白光干涉測厚儀的技術參數與型號配置


型號LTS-100LTS-100WLTS-50LTS-50W
適配探頭LTP-T50(聚焦光點,Φ100μm)LTP-T10-UV-VIS(彌散光斑,10mm 距離時 Φ4mm)LTP-T50LTP-T10-UV-VIS
參考距離50mm非聚焦探頭50mm非聚焦探頭
測量范圍±2mm(厚度:2μm~100μm,折射率 1.5 時)建議安裝距離 5-10mm(厚度:1μm~50μm,折射率 1.5 時)±2mm建議安裝距離 5-10mm
精度指標重復精度 1nm,線性誤差 ±20nm重復精度 1nm,線性誤差 ±20nm重復精度 1nm,線性誤差 ±20nm重復精度 1nm,線性誤差 ±20nm
測量角度±3°±10°±3°±10°
采樣頻率最高 10kHz最高 10kHz最高 10kHz最高 10kHz
探頭規格Φ30×58mm,90g,IP40 防護Φ6.35×65mm,輕量化設計Φ30×58mm,90g,IP40 防護Φ6.35×65mm,輕量化設計
接口Ethernet(100BASE-TX)、USB2.0、RS-485(Modbus 協議)同左同左同左
電源24VDC±10%,電流 0.4A同左同左同左
工作環境溫度 0~50℃,濕度 20~85% RH(無冷凝)同左同左同左

  



五、典型應用場景

  電子行業:觸摸屏 ITO 膜厚測量、UTG 超薄柔性玻璃厚度檢測。
  新能源:鋰電隔膜厚度在線監測、光伏薄膜均勻性檢測。
  材料科學:PET 多層膜材厚度分層測量、光學涂層厚度控制。
  精密制造:半導體晶圓薄膜沉積厚度監控、微納結構表面形貌分析。

  

六、配套支持

  軟件與開發:
  上位機軟件 TSConfocalStudio,支持實時數據顯示與分析。
  提供 C++/C# 二次開發包,便于集成至自動化產線。
  硬件適配:
  支持編碼器觸發與脈沖 / 電平觸發輸入,兼容多種工業控制信號。
  模擬信號輸出(±10V 電壓 / 4~20mA 電流)與數字信號輸出(警報、比較器),滿足不同設備接口需求。

  

七、白光干涉測厚儀的設計亮點

  緊湊輕量化:最小探頭直徑僅 6.35mm,適合狹小空間安裝。

  光纖設計:光纖接頭預留距離 100mm,靜態 / 動態彎曲半徑分別為 30mm/60mm,

                       提升布線靈活性。

  長期穩定性:無發熱探頭結構,避免溫度漂移影響,確保高精度持續測量。

  

總結

  LTS系列干涉測厚傳感器以納米級精度、超快響應和高可靠性,成為薄膜厚度測量的理想選擇,廣泛應用于高duan制造的質量控制與工藝優化,助力客戶實現精密測量與生產效率提升。


 

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